CuIn Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Ang target nga sputtering sa copper Indium alloy gihimo nga naandan pinaagi sa pagtunaw sa vacuum induction.Ang Indium mahimong magporma ug lain-laing klase sa indium alloy nga adunay halos tanang elemento sa periodic table.Ang Copper Indium nga haluang metal usa ka binary nga haluang metal, kasagaran kini gigamit ingon nga ubos nga pagtunaw nga haluang metal ug brazing alloy.

Ang Copper Indium alloy sputtering target adunay mamatikdan nga bentaha nga kini makahimo og PVD coatings nga adunay maayo kaayo nga electric conductivity ug refined grain size.Makatabang kini sa pagporma sa mga lut-od sa CIGS, nga adunay mga komposisyon nga tumbaga (Cu), gallium (Ga), indium (In) ug selenium (Se) ug gihinganlan sumala sa ilang mga bahin.Ang CIGS adunay taas nga pagkaayo sa pagkakabig sa photovoltaic, mao nga kini mapasibo alang sa paggamit ingon nga pagsuyop nga layer alang sa mga solar cell.

Ang Rich Special Materials espesyalista sa Paggama sa Sputtering Target ug makahimo og Copper Indium Sputtering Materials sumala sa mga detalye sa mga Kustomer.Para sa dugang nga impormasyon, palihog kontaka mi.