Mga Klasipikasyon ug Aplikasyon sa Magnetron Sputtering Target

　　1. Magnetron sputtering pamaagi:

Ang Magnetron sputtering mahimong bahinon sa DC sputtering, medium frequency sputtering ug RF sputtering

A. DC sputtering power supply barato ug ang densidad sa gideposito nga pelikula dili maayo.Kasagaran, ang domestic photothermal ug thin-film nga mga baterya gigamit nga adunay ubos nga enerhiya, ug ang sputtering target mao ang conductive metal nga target.

B. Ang RF sputtering energy taas, ug ang sputtering target mahimong non-conductive target o conductive target.

C. Medium frequency sputtering target mahimong seramiko target o metal target.

　　2. Klasipikasyon ug paggamit sa sputtering target

Adunay daghang mga matang sa sputtering target, ug ang target nga mga pamaagi sa klasipikasyon lahi usab.Sumala sa porma, gibahin sila sa taas nga target, square target ug round target;Sumala sa komposisyon, kini mahimong bahinon ngadto sa metal target, haluang metal target ug seramiko compound target;Sumala sa lain-laing mga natad sa aplikasyon, kini mahimong bahinon ngadto sa semiconductor related ceramic target, recording medium ceramic target, display ceramic target, ug uban pa Sputtering target kay nag-una nga gigamit sa electronic ug impormasyon industriya, sama sa impormasyon storage industriya.Sa niini nga industriya, ang sputtering target gigamit sa pag-andam sa mga may kalabutan nga manipis nga mga produkto sa pelikula (hard disk, magnetic head, optical disc, ug uban pa).Sa pagkakaron.Sa padayon nga pag-uswag sa industriya sa kasayuran, ang panginahanglan alang sa pagrekord sa medium nga mga target nga seramik sa merkado nagdugang.Ang panukiduki ug paghimo sa pagrekord sa medium nga mga target nahimo nga sentro sa daghang atensyon.