taas nga kaputli nga Zirconium Sputtering Target

Rich espesyal nga mga materyales Co., Ltd.naghatag ug taas nga purity nga Zirconium Sputtering Target nga adunay pinakataas nga posible nga densidad ug pinakagamay nga posible nga kasagarang gidak-on sa lugas para gamiton sa semiconductor, chemical vapor deposition (CVD) ug physical vapor deposition (PVD) display ug optical applications.Ang among standard nga sputtering target para sa thin film anaa monoblock o bonded sa planar target dimensions ug configurations hangtod sa 820 mm nga adunay hole drill nga mga lokasyon ug threading, beveling, grooves ug backing nga gidisenyo aron magtrabaho uban ang mga daan nga sputtering devises ingon man ang pinakabag-o nga mga kagamitan sa proseso, sama sa dako nga lugar coating alang sa solar energy o fuel cells ug flip-chip applications.Ang mga target nga gidak-on sa panukiduki gihimo usab ingon man mga naandan nga gidak-on ug mga haluang metal.Ang tanan nga mga target gi-analisa gamit ang labing maayo nga gipakita nga mga teknik lakip ang X-Ray Fluorescence (XRF).