Mga kinahanglanon sa performance alang sa target nga mga materyales sa optical storage industry

Ang target nga materyal nga gigamit sa industriya sa pagtipig sa datos nanginahanglan taas nga kaputli, ug ang mga hugaw ug mga pores kinahanglan nga maminusan aron malikayan ang pagmugna sa mga partikulo sa kahugawan sa panahon sa sputtering.Ang target nga materyal nga gigamit alang sa taas nga kalidad nga mga produkto nanginahanglan nga ang gidak-on sa kristal nga partikulo kinahanglan gamay ug parehas, ug walay kristal nga oryentasyon.Sa ubos, atong tan-awon ang mga kinahanglanon sa industriya sa optical storage alang sa target nga materyal?

1. Kaputli

Sa praktikal nga mga aplikasyon, ang kaputli sa target nga mga materyales magkalainlain sumala sa lainlaing mga industriya ug kinahanglanon.Bisan pa, sa kinatibuk-an, mas taas ang kaputli sa target nga materyal, mas maayo ang performance sa sputtered film.Pananglitan, sa industriya sa optical storage, ang kaputli sa target nga materyal gikinahanglan nga mas dako pa kay sa 3N5 o 4N

2. Kahugaw nga sulod

Ang target nga materyal nagsilbing tinubdan sa cathode sa sputtering, ug ang mga hugaw sa solid ug oxygen ug alisngaw sa tubig sa mga pores mao ang nag-unang tinubdan sa polusyon alang sa pagdeposito sa nipis nga mga pelikula.Dugang pa, adunay mga espesyal nga kinahanglanon alang sa mga target sa lainlaing mga gamit.Ang pagkuha sa industriya sa optical storage isip usa ka pananglitan, ang kahugawan nga sulod sa mga sputtering target kinahanglan nga kontrolahon nga ubos kaayo aron masiguro ang kalidad sa coating.

3. Gidak-on sa lugas ug apod-apod sa gidak-on

Kasagaran, ang target nga materyal adunay polycrystalline nga istruktura, nga adunay mga gidak-on sa lugas gikan sa micrometers hangtod millimeters.Para sa mga target nga adunay parehas nga komposisyon, ang sputtering rate sa pino nga mga target sa lugas mas paspas kaysa sa mga coarse grain target.Alang sa mga target nga adunay gagmay nga mga kalainan sa gidak-on sa lugas, ang gibag-on nga gi-deposito nga pelikula mahimo usab nga mas uniporme.

4. Pagkakompakto

Aron makunhuran ang porosity sa solid nga target nga materyal ug mapaayo ang performance sa pelikula, kasagaran gikinahanglan nga ang sputtering target nga materyal adunay taas nga density.Ang Densidad sa target nga materyal nag-una nagdepende sa proseso sa pag-andam.Ang target nga materyal nga gihimo pinaagi sa pagtunaw ug paghulma nga pamaagi makasiguro nga walay mga pores sa sulod sa target nga materyal ug ang densidad taas kaayo.