Mga Matang sa Magnetron Sputtering Target

Uban sa pagtaas sa panginahanglan sa merkado, nagkadaghang mga matang sa sputtering target ang kanunay nga gi-update.Ang uban pamilyar ug ang uban dili pamilyar sa mga kustomer.Karon, gusto namong ipaambit kanimo kung unsa ang mga tipo sa magnetron sputtering target.

Ang target sa sputtering adunay mga mosunod nga mga tipo: target sa pag-sputter sa metal nga sputtering, target sa coating nga sputtering sa haluang metal, target sa pag-sputter sa seramik nga sputtering, target sa sputtering sa boride nga seramik, target sa sputtering sa carbide ceramic, target sa pag-sputter sa fluoride, target sa sputtering sa nitride, target sa seramiko sa oxide, target sa sputtering nga selenide. , silicide ceramic sputtering target, sulfide ceramic sputtering target, telluride ceramic sputtering target, ubang mga ceramic target, Chromium doped silicon oxide ceramic target (CR SiO), indium phosphide target (INP), lead arsenide target (pbas), indium arsenide target (InAs ).

Ang Magnetron sputtering kasagaran gibahin sa duha ka matang: DC sputtering ug RF sputtering.Ang prinsipyo sa DC sputtering equipment yano ra, ug ang rate niini paspas usab kung mag-sputtering metal.Ang RF sputtering kaylap nga gigamit.Dugang sa pag-sputter sa conductive data, mahimo usab kini nga sputter non-conductive data.Sa samang higayon, ang sputtering target nagpahigayon usab ug reactive sputtering aron maandam ang compound data sama sa oxides, nitride ug carbide.Kung ang RF frequency mosaka, mahimo kini nga microwave plasma sputtering.Sa pagkakaron, ang electron cyclotron resonance (ECR) microwave plasma sputtering sagad gigamit.