Ang vacuum plating sa pagpili sa sputtering target nga mga materyales usa ka isyu alang sa mga tawo, sa pagkakaron, tungod kay ang sputtering coating, ilabi na ang pagpalambo sa magnetron sputtering coating nga mga kahanas, mahimong isulti alang sa bisan unsa nga impormasyon nga makahimo sa pag-target sa materyal nga pag-andam sa manipis nga mga pelikula. pinaagi sa pagpamomba sa ion, tungod kay pinaagi sa sputtering target nga materyal sa proseso sa taklap ngadto sa matang sa substrate, adunay usa ka importante nga epekto sa kalidad sa sputtering pelikula, Busa, ang target nga materyal nga mga kinahanglanon mas estrikto.Dinhi atong mahibal-an ang bahin sa papel sa sputtering target sa vacuum coating kauban ang editor sa Beijing Relaxation
一, Prinsipyo sa pagpili ug klasipikasyon sa target nga materyal
Sa pagpili sa target nga materyal, dugang pa sa paggamit sa pelikula sa iyang kaugalingon kinahanglan nga mapili, ang mosunod nga mga problema kinahanglan usab nga tagdon:
Problema 1. Sumala sa paggamit ug mga kinahanglanon sa performance sa lamad, gikinahanglan alang sa target nga materyal aron matubag ang mga teknikal nga kinahanglanon sa kaputli, sulod sa magasin, pagkaparehas sa sangkap, katukma sa machining ug uban pa.
Problema 2. Ang target nga materyal kinahanglan adunay maayo nga mekanikal nga kalig-on ug kemikal nga kalig-on human sa pagporma sa pelikula;
Problema 3. Gikinahanglan alang sa materyal nga pelikula nga makamugna og compound film nga sayon nga adunay reaksyon nga gas isip reactive sputtering film;
Problema 4. Kinahanglan nga ibutang ang target ug ang matrix nga mahimong lig-on, kung dili, ang materyal nga pelikula nga adunay maayo nga adhesion sa matrix kinahanglan nga gisagop, una nga mag-sputter sa usa ka layer sa ubos nga pelikula ug dayon pag-andam sa gikinahanglan nga layer sa pelikula;
Pangutana 5. Sa pasiuna sa pagtagbo sa mga kinahanglanon sa pasundayag sa pelikula, mas gamay ang kalainan tali sa thermal expansion coefficient sa target ug sa matrix, mas maayo, aron makunhuran ang impluwensya sa thermal stress sa sputtering film;
Pag-andam sa daghang sagad nga gigamit nga mga target
(1) target sa cr
Ang Chromium isip usa ka sputtering film nga materyal dili lamang sayon nga ikombinar sa base nga materyal adunay taas nga adhesion, ug ang chromium ug oxide CrQ3 nga pelikula, ang mekanikal nga mga kabtangan niini, acid resistance ug thermal stability mas maayo.
Ang Beijing Ruichi High-tech Co., Ltd. nag-una nga moapil sa: titanium target zirconium target, aluminum target, nickel target, chromium target, tungsten target, molybdenum target, tumbaga target, silicon target, niobium target, tantalum target, titanium-silicon alloy target, titanium-niobium alloy target, titanium-tungsten alloy target, titanium-zirconium alloy target, nickel-chromium alloy target, silica-aluminum alloy target, nickel-vanadium alloy target, chromium-aluminum-silicon ternary alloy target，Ti al si ternary alloy nga target nga materyal, kaylap nga gigamit sa dekorasyon / gahi nga nawong ug functional coating, arkitektura nga bildo, flat display / optical photoelectric, optical storage, electronics, pag-imprinta ug uban pang mga propesyon.
Oras sa pag-post: Hunyo-02-2022