CoCrAlY Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film PVD Coating Custom Made

Ang Cobalt Chromium Aluminum Yttrium sputtering target usa ka Cobalt-based nga haluang metal nga adunay pagdugang sa Chromium Aluminum ug Yttrium nga mga elemento.Nagpakita kini og maayo nga pamatasan nga resistensya sa kaagnasan sa gisagol nga medium sa asin (sodium sulfate, sodium nitrate, sodium carbonate, calcium sulfate, calcium sulfate, sodium chloride potassium chloride, sodium chloride sodium sulfate) sa taas nga temperatura.Ang Chromium Aluminum Yttrium mahimong adunay lain-laing mga ratios, depende sa operational environment sa mga layer.Kasagaran, ang alloy magpakita sa biphasic nga istruktura samtang ang sulud sa Chromium 20-40% (wt, Aluminum 5-20% (wt), ug Yttrium 0.5% (wt).

Ang mga target sa Cobalt Chromium Aluminum Yttrium mahimong ibutang sa ibabaw sa taas nga temperatura nga mga sangkap nga gigamit sa aerospace, eroplano, ug gas turbine nga mga industriya.Kini nga matang sa layer makapalugway sa serbisyo sa kinabuhi sa napulo ka libo ka oras.