Ang MoNb Sputtering Target nga Taas nga Purity Thin Film PVD Coating Custom Made

Ang mga target sa Molybdenum Niobium giandam pinaagi sa pagsagol sa Molybdenum ug Niobium nga mga pulbos nga gisundan sa pag-compact sa hingpit nga density.Ang ingon nga compacted nga mga materyales opsyonal nga sintered ug unya maporma ngadto sa gitinguha nga target nga porma.
Ang target nga molybdenum Niobium sputtering adunay taas nga punto sa pagkatunaw, kusog, ug katig-a sa taas nga temperatura.Nagpakita usab kini nga maayo kaayo nga kainit ug koryente nga conductivity nga adunay ubos nga coefficient sa pagpalapad sa kainit.Ang pagdugang sa Niobium sa Molybdenum makapauswag sa liquid-crystal display pixel sa labing menos tulo ka beses.

Ang Molybdenum Niobium sputtering target mao ang mga kritikal nga materyales alang sa Flat Panel Display (FPD) ug gigamit sa daghang gidaghanon sa mga molybdenum-niobium alloys alang sa Liquid Crystal Display (LCD) source cuboid liquid crystal display, field emission display, organic light-emitting display, plasma display panels, cathodoluminescence display, vacuum fluorescent display, TFT flexible display ug touch screens, ug uban pa Electron beam evaporation sa mga proseso sa display panel makahimo sa Niobium nga deposito sa ibabaw nga tumoy sa emitter, nga makatabang kaayo sa pagpalambo sa dagkong mga screen nga adunay taas nga kahulugan.

Ang Rich Special Materials espesyalista sa Paggama sa Sputtering Target ug makahimo og Molybdenum Niobium Sputtering Materials sumala sa mga detalye sa mga Kustomer.Para sa dugang nga impormasyon, palihog kontaka mi.