Tungsten silisidyo

Ang Tungsten silicide WSi2 gigamit isip usa ka electric shock nga materyal sa microelectronics, shunting sa polysilicon wires, anti-oxidation coating ug resistance wire coating.Ang tungsten silicide gigamit isip contact material sa microelectronics, nga adunay resistivity nga 60-80μΩcm.Naporma kini sa 1000°C.Kasagaran kini gigamit ingon usa ka shunt alang sa mga linya sa polysilicon aron madugangan ang conductivity niini ug madugangan ang katulin sa signal.Ang tungsten Silicide layer mahimong andamon pinaagi sa kemikal nga alisngaw deposition, sama sa alisngaw deposition.Gamita ang monosilane o dichlorosilane ug tungsten hexafluoride isip hilaw nga materyal nga gas.Ang gideposito nga pelikula dili stoichiometric ug nanginahanglan og annealing aron mabag-o sa usa ka labi nga conductive stoichiometric nga porma.

Ang tungsten silicide mahimong mopuli sa naunang tungsten film.Ang tungsten silicide gigamit usab isip usa ka barrier layer tali sa silicon ug uban pang mga metal.

Ang tungsten silicide usab bililhon kaayo sa microelectromechanical nga mga sistema, diin ang tungsten silicide kasagarang gigamit isip usa ka nipis nga pelikula alang sa paghimo og microcircuits.Alang niini nga katuyoan, ang tungsten silicide film mahimong plasma-etched gamit, pananglitan, silicide.

Ang Rich Special Materials espesyalista sa Paggama sa Sputtering Target ug makahimo og Tungsten Silicide Sputtering Materials sumala sa mga detalye sa mga Kustomer.Para sa dugang nga impormasyon, palihog kontaka mi.